無(wú)論是哪種真空鍍膜機(jī)鍍制的薄膜，其均勻性都會(huì)遭到某種要素影響，如今咱們就磁控濺射真空鍍膜機(jī)來(lái)看看形成不均勻的要素有哪些。

   磁控濺射真空鍍膜機(jī)的運(yùn)作即是經(jīng)過(guò)真空狀況下正交磁場(chǎng)使電子炮擊氬氣構(gòu)成的氬離子再炮擊靶材，靶材離子堆積于工件外表成膜。如此咱們能夠思考與膜層厚度的均勻性有關(guān)的有真空狀況、磁場(chǎng)、氬氣這三個(gè)方面。

   真空狀況就需要抽氣體系來(lái)操控的，每個(gè)抽氣口都要一起開(kāi)動(dòng)并力度共同，這么就能夠操控好抽氣的均勻性，假如抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了，壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在必定的影響的。另外抽氣的時(shí)刻也要操控，太短會(huì)形成真空度不夠，但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源，不過(guò)有真空計(jì)的存在，要操控好仍是不成問(wèn)題的。

   磁場(chǎng)是正交運(yùn)作的，但你要把磁場(chǎng)強(qiáng)度做到百分之一百均勻是不可能的，通常磁場(chǎng)強(qiáng)的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以會(huì)形成膜層厚度的不共同，不過(guò)在生產(chǎn)過(guò)程中，因?yàn)榇艌?chǎng)的不均勻?qū)е碌哪硬痪鶆虻臓顩r卻不是常見(jiàn)的，為何呢?本來(lái)磁場(chǎng)強(qiáng)弱盡管不好操控，但一起工件也在一起工作，而且是靶材原子屢次堆積才會(huì)結(jié)束鍍膜工序，在一段時(shí)刻內(nèi)盡管某些部位厚，某些部位薄，但另一個(gè)時(shí)刻內(nèi)，磁場(chǎng)強(qiáng)的效果下在本來(lái)薄的部位堆積上厚的，在厚的部位堆積上薄的，如此屢次，全部膜層終究成膜后，均勻性仍是比較不錯(cuò)的。

   氬氣的送氣均勻性也會(huì)對(duì)膜層的均勻性發(fā)生影響，原理本來(lái)和真空度差不多，因?yàn)闅鍤獾倪M(jìn)入，真空室內(nèi)壓強(qiáng)會(huì)發(fā)生改變，均勻的壓強(qiáng)巨細(xì)能夠操控成膜厚度的均勻性。

   盡管老是會(huì)有那么幾種要素形成膜層的不均勻，但假如準(zhǔn)確的把真空鍍膜機(jī)的操作做到位了，那么膜層的合格率是很高的。www.ayvec.cn